99.95% zuiverheidsniobium Doel voor het Materiaal van de Filmdeklaag met uiterst Verminderde Onzuiverheden

99.95% zuiverheidsniobium Rechthoekig Doel voor het Materiaal van de Filmdeklaag

Onzuiverheden:

Metaalonzuiverheden, in gewicht maximum p.p.m.

Niet-metalen onzuiverheden, in gewicht maximum p.p.m.

Korrelgrootte:

1. Typische grootte: 3080μm
2. Andere op verzoek beschikbare korrelgrootte

Vlakheid: ≤0.2mm

Oppervlakteruwheid: <1>

Beschrijving:

 Niobium de doelstellingen worden gebruikt als deklaagmaterialen. Zijn smeltpunt is 2468℃ en kookpunt 4742℃. Het heeft de kenmerken van weerstand op hoge temperatuur, hoge corrosieweerstand en goede rekbaarheid. Niobium is het sputterende doel (Nb doel) de belangrijkste grondstof van niobium en zijn legeringsfilm, die wijd in kleur TFT, LCD, paneelpc, optische lenzen, glasdeklagen, elektronisch beeld, geavanceerd touch screen, vlak paneelvertoning en het materiaal van de oppervlaktedeklaag voor energy-saving glazen, informatieopslag, zonnecel, chemisch corrosief milieu en verschepende onderneming worden gebruikt.

Onze productielijn behandelt uitsmelting aan het machinaal bewerken tot geëindigd - producten. Wij zijn goed bij het proces van het niobiuimdoel en onze doelstellingen aan Japan, Duitsland, Taiwan geleverd. Wij zijn vernieuwend onze technieken, verbeterend de productkwaliteit, onophoudelijk verhogend de doelbezettingsgraad en verlagend de kosten van onze klanten. Wij zijn zeker de beste keus voor onze klanten te zijn.

Onze Sterkte:

• De ervaring van meer dan 20 jaar in tantalium /niobium en zijn legeringsuitsmelting en diepe verwerking
• Stabiele grondstoffenlevering van Chinese grootste tantalium/niobium hydrometallurgy smeltoven
• Kwaliteitscontrole uit de bron
• Waarborgbetere kwaliteit met lagere prijs
• Concurrerende prijs onder de bedrijfsedelen
• Geavanceerd materiaal
• Overgegaane ISO 9001 (2015)
• Volledig en strikt systeem voor kwaliteitscontrole,